一種iv型埃替拉韋晶體及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種IV型埃替拉韋晶體及其制備方法。所述的IV型埃替拉韋晶體的X-射線粉末衍射譜圖在如下2θ：9.98°、11.68°、17.05°、18.98°、23.12°、23.57°下具有特征衍射峰，測(cè)試誤差為±0.2°。所述晶體的制備包括如下步驟：在20～60℃，使無(wú)定型埃替拉韋溶解于適量的無(wú)水乙醇中；在10～20℃攪拌使析晶或滴加反溶劑后在0～10℃攪拌使析晶；過(guò)濾，干燥。本發(fā)明提供的IV型埃替拉韋晶體相對(duì)于現(xiàn)有晶型具有更優(yōu)異的溶解性和優(yōu)良的穩(wěn)定性，更有利于制劑的制備；另外，本發(fā)明的制備方法簡(jiǎn)單、生產(chǎn)周期短、成本低、易于規(guī)?；a(chǎn)。
【專利說(shuō)明】一種IV型埃替拉韋晶體及其制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及埃替拉韋的一種新晶型及其制備方法，具體說(shuō)，是涉及一種IV型埃替 拉韋晶體及其制備方法，屬于藥物合成【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002] 埃替拉韋（elvitegravir)是由吉利德科學(xué)公司（Gilead Sciences, Inc.)開發(fā)的 新一類整合酶抑制劑，其主要是用于阻止HIV病毒將染色體整合到宿主細(xì)胞DNA中的藥物， 現(xiàn)處于預(yù)注冊(cè)階段，其化學(xué)結(jié)構(gòu)式如下所示：
[0003]

【權(quán)利要求】
1. 一種IV型埃替拉韋晶體，其特征在于：所述晶體的X-射線粉末衍射譜圖在如下 2Θ :9.98°、11.68°、17.05°、18.98°、23.12°、23.57° 下具有特征衍射峰，測(cè)試誤差為 ±0.2°。
2. 如權(quán)利要求1所述的IV型埃替拉韋晶體，其特征在于：所述晶體的X-射線粉末衍射 譜圖在如下 2Θ :8.52。、9.98°、10.53。、11.68°、12.76°、13.93。、14.58°、15.98°、 17.05°、16.76°、18.98°、20.15°、21.28°、23.12°、23.57 °、24.65 °、25.84 °、 28. 42°、34. 68°、36. 57°下具有主衍射峰，測(cè)試誤差為±0.2°。
3. 如權(quán)利要求1所述的IV型埃替拉韋晶體，其特征在于：所述晶體在30?200°C范圍 內(nèi)的差熱-熱重分析中的失重率為8. 5%?9. 5%。
4. 一種制備權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的IV型埃替拉韋晶體的方法，其特征在于， 包括如下步驟： a) 在20?60°C，使無(wú)定型埃替拉韋溶解于適量的無(wú)水乙醇中； b) 在10?20°C攪拌使析晶； c) 過(guò)濾，干燥。
5. 如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于：步驟a)使lg無(wú)定型埃替拉韋溶解于1? 9mL的無(wú)水乙醇中。
6. 如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于：步驟c)中的干燥為真空干燥、熱風(fēng)干燥或 流化床干燥。
7. -種制備權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的IV型埃替拉韋晶體的方法，其特征在于， 包括如下步驟： 1) 在20?60°C，使無(wú)定型埃替拉韋溶解于適量的無(wú)水乙醇中； 2) 滴加反溶劑：正己烷、正庚烷、乙醚、異丙醚、甲基叔丁基醚中的至少一種； 3) 滴畢，降溫到0?10°C，攪拌使析晶； 4) 過(guò)濾，干燥。
8. 如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于：步驟1)使lg無(wú)定型埃替拉韋溶解于1? 9mL的無(wú)水乙醇中。
9. 如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于：步驟2)中滴加的反溶劑體積與無(wú)水乙醇的 體積比為1:1。
10. 如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于：步驟4)中的干燥為真空干燥、熱風(fēng)干燥或 流化床干燥。
【文檔編號(hào)】C07D215/56GK104151241SQ201310178458
【公開日】2014年11月19日 申請(qǐng)日期:2013年5月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月15日
【發(fā)明者】李金亮, 趙楠, 胡文軍 申請(qǐng)人:上海迪賽諾化學(xué)制藥有限公司