專利名稱：用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構的制作方法
技術領域：
用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構技術領域[0001]本實用新型涉及一種分子篩再生器，尤其涉及一種用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構。
背景技術：
[0002]目前現(xiàn)有的分子篩再生器結構相對復雜，而且操作不方便，同時存在生產(chǎn)效率低等不足。發(fā)明內容[0003]本實用新型主要是解決現(xiàn)有技術中存在的不足，提供一種結構簡單的用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構。[0004]本實用新型的上述技術問題主要是通過下述技術方案得以解決的[0005]一種用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構，包括法蘭和封頭，所述的法蘭的下端側壁設有封頭安裝缺口，所述的封頭安裝缺口中設有封頭，所述的封頭的外側壁與法蘭的外側壁處于同一水平面，所述的法蘭與封頭的上部通過上焊接圈層相固定，所述的法蘭與封頭的側壁通過下焊接圈層相固定，所述的上焊接圈層的張開角度為30度，所述的下焊接圈層的張開角度為60度，所述的法蘭與封頭相間隔分布。[0006]本實用新型提供用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構，結構簡單，使用方便。


[0007]圖I是本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
[0008]下面通過實施例，并結合附圖，對本實用新型的技術方案作進一步具體的說明。[0009]實施例I :如圖I所示，一種用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構，包括法蘭I和封頭2，所述的法蘭I的下端側壁設有封頭安裝缺口 3，所述的封頭安裝缺口 3中設有封頭 2，所述的封頭2的外側壁與法蘭I的外側壁處于同一水平面，所述的法蘭I與封頭2的上部通過上焊接圈層4相固定，所述的法蘭I與封頭2的側壁通過下焊接圈層5相固定，所述的上焊接圈層4的張開角度為30度，所述的下焊接圈層5的張開角度為60度，所述的法蘭 I與封頭2相間隔分布。
權利要求1. 一種用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構，其特征在于包括法蘭(I)和封頭(2)， 所述的法蘭(I)的下端側壁設有封頭安裝缺口(3)，所述的封頭安裝缺口(3)中設有封頭(2)，所述的封頭(2)的外側壁與法蘭(I)的外側壁處于同一水平面，所述的法蘭(I)與封頭(2)的上部通過上焊接圈層(4)相固定，所述的法蘭(I)與封頭(2)的側壁通過下焊接圈層(5)相固定，所述的上焊接圈層(4)的張開角度為30度，所述的下焊接圈層(5)的張開角度為60度，所述的法蘭(I)與封頭(2)相間隔分布。
專利摘要本實用新型涉及一種分子篩再生器，尤其涉及一種用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構。包括法蘭和封頭，所述的法蘭的下端側壁設有封頭安裝缺口，所述的封頭安裝缺口中設有封頭，所述的封頭的外側壁與法蘭的外側壁處于同一水平面，所述的法蘭與封頭的上部通過上焊接圈層相固定，所述的法蘭與封頭的側壁通過下焊接圈層相固定，所述的上焊接圈層的張開角度為30度，所述的下焊接圈層的張開角度為60度，所述的法蘭與封頭相間隔分布。用于分子篩再生器的法蘭與封頭機構結構簡單，使用方便。
文檔編號B01J20/34GK202741147SQ20122036807
公開日2013年2月20日 申請日期2012年7月28日 優(yōu)先權日2012年7月28日
發(fā)明者管凱華 申請人:杭州紐創(chuàng)工業(yè)設計有限公司