本申請(qǐng)涉及光學(xué)檢測(cè)，具體而言，涉及一種自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法、系統(tǒng)及裝置。

背景技術(shù)：

1、自聚焦透鏡陣列所成的像，是一個(gè)一個(gè)自聚焦透鏡單元成的像相互重疊的結(jié)果，每個(gè)自聚焦透鏡具有半個(gè)足球形狀的光量分布。自聚焦透鏡陣列是多個(gè)透鏡單元的排列物，所以自聚焦透鏡陣列的光量是一個(gè)一個(gè)單元透鏡的光量之和，于是產(chǎn)生了伴隨透鏡的小塊排列周期性的光量均勻度。該指標(biāo)是衡量自聚焦透鏡陣列進(jìn)行成像活動(dòng)時(shí)，整個(gè)像面畫幅上光能傳遞效率一致性的重要指標(biāo)，是衡量畫幅上的畫面亮度觀感一致性水平的指標(biāo)，也是衡量畫幅上分辨能力一致性的指標(biāo)。

2、目前常見(jiàn)光學(xué)系統(tǒng)往往使用成像亮度計(jì)進(jìn)行亮度的測(cè)試，基本結(jié)構(gòu)通常是由視覺(jué)匹配的探測(cè)器、光學(xué)系統(tǒng)以及與亮度(或三刺激值)成比例的信號(hào)輸出處理系統(tǒng)所組成。在測(cè)試時(shí)，測(cè)試位置需要與透鏡之間的距離相對(duì)較長(zhǎng)，才能夠完成相關(guān)測(cè)試。所以這些測(cè)試儀器僅適合進(jìn)行遠(yuǎn)距離發(fā)光面的測(cè)量，例如適用于路面亮度、景觀照明、儀表盤亮度、顯示屏亮度、光源和發(fā)光器件、電影電視、交通信號(hào)標(biāo)志、建筑、大氣光度等領(lǐng)域亮度的測(cè)試。而對(duì)于亮度的均勻性只能通過(guò)測(cè)量的圖像上亮度分布數(shù)據(jù)的差異來(lái)衡量。

3、自聚焦透鏡陣列是一類比較特殊的產(chǎn)品，通常具備單元透鏡尺寸小、通光口徑小、產(chǎn)品非軸對(duì)稱、焦距短、工作距離短的特點(diǎn)。對(duì)此，采用傳統(tǒng)的檢測(cè)方式無(wú)法實(shí)現(xiàn)對(duì)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性進(jìn)行檢測(cè)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)實(shí)施例的目的在于提供一種自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法、系統(tǒng)及裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性進(jìn)行檢測(cè)。

2、第一方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法，包括：

3、確定目標(biāo)光源透過(guò)待測(cè)自聚焦透鏡陣列的目標(biāo)像面區(qū)域；

4、基于所述目標(biāo)像面區(qū)域，通過(guò)控制近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀移動(dòng)以獲取所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)；

5、根據(jù)所述成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)確定所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性。

6、在本申請(qǐng)實(shí)施例中，在確定待測(cè)陣列的成像面區(qū)域后，通過(guò)控制近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀移動(dòng)來(lái)獲取陣列的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)，從而能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性進(jìn)行檢測(cè)。

7、在一些可能的實(shí)施例中，所述通過(guò)控制近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀移動(dòng)以獲取所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)，包括：

8、通過(guò)控制近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀移動(dòng)以依次獲取所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的每一透鏡單元對(duì)應(yīng)位置的成像光強(qiáng)，作為所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)。

9、在本申請(qǐng)實(shí)施例中，通過(guò)分別獲取每一個(gè)透鏡單元的成像光強(qiáng)，作為用于確定亮度均勻性的數(shù)據(jù)基礎(chǔ)，從而提高了亮度均勻性檢測(cè)的精確性。

10、在一些可能的實(shí)施例中，所述根據(jù)所述成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)確定所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性，包括：

11、根據(jù)所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列中每一列透鏡單元不同位置處的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)確定每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)的亮度均勻性；

12、根據(jù)所述每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)的亮度均勻性確定所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性。

13、在本申請(qǐng)實(shí)施例中，首先獲取透鏡陣列的每一豎列的透鏡單元的亮度均勻性，再根據(jù)每一列透鏡單元的亮度均勻性確定整個(gè)透鏡陣列的亮度均勻性。從而提高了透鏡陣列亮度均勻性檢測(cè)的準(zhǔn)確性。

14、在一些可能的實(shí)施例中，所述根據(jù)所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列中每一列透鏡單元不同位置處的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)確定每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)的亮度均勻性，包括：

15、根據(jù)所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列中每一列透鏡單元不同位置處的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)，確定每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)像面的光強(qiáng)最大值和光強(qiáng)最小值；

16、基于每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)像面的光強(qiáng)最大值和光強(qiáng)最小值確定每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)的亮度均勻性。

17、在本申請(qǐng)實(shí)施例中，在確定每一列透鏡單元的亮度均勻性時(shí)，通過(guò)根據(jù)當(dāng)前列的光強(qiáng)數(shù)據(jù)獲取光強(qiáng)最大值和最小值，再根據(jù)光強(qiáng)最大值和最小值運(yùn)用設(shè)定的計(jì)算方式來(lái)確定該列透鏡單元的亮度均勻性。從而簡(jiǎn)化了亮度均勻性的檢測(cè)過(guò)程，提高了亮度均勻性檢測(cè)的效率。

18、在一些可能的實(shí)施例中，所述根據(jù)所述每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)的亮度均勻性確定所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性，包括：

19、根據(jù)所述每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)的亮度均勻性生成所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性曲線。

20、在本申請(qǐng)實(shí)施例中，通過(guò)根據(jù)每一列透鏡單元的亮度均勻性生成整個(gè)透鏡陣列的亮度均勻性曲線，從而能夠直觀反映整個(gè)透鏡陣列的亮度均勻性情況，提高了亮度均勻性指標(biāo)的直觀性。

21、第二方面，本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)系統(tǒng)，包括光學(xué)平臺(tái)、目標(biāo)光源、待測(cè)自聚焦透鏡陣列、近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀和控制裝置；

22、所述目標(biāo)光源、所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列和所述近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀分別可活動(dòng)連接于所述光學(xué)平臺(tái)上；

23、所述控制裝置用于實(shí)現(xiàn)任一所述的自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法。

24、在本申請(qǐng)實(shí)施例中，提供一種與自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法相應(yīng)的檢測(cè)系統(tǒng)，包括目標(biāo)光源、待測(cè)自聚焦透鏡陣列、近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀和控制裝置，通過(guò)控制裝置分別控制各個(gè)檢測(cè)部件進(jìn)行移動(dòng)或固定，使得近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀采集得到待測(cè)自聚焦透鏡陣列的光強(qiáng)數(shù)據(jù)，從而能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性進(jìn)行檢測(cè)。

25、在一些可能的實(shí)施例中，所述的自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)系統(tǒng)還包括光闌；所述光闌用于將所述目標(biāo)光源的出射光線限制為適配于所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的形狀的光線。

26、在本申請(qǐng)實(shí)施例中，檢測(cè)系統(tǒng)還包括光闌，能夠?qū)⒐庠吹墓饩€集中照射到整個(gè)透鏡陣列上，提高了亮度均勻性檢測(cè)的效率和準(zhǔn)確性。

27、第三方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)裝置，包括：

28、像面確定模塊，用于確定目標(biāo)光源透過(guò)待測(cè)自聚焦透鏡陣列的目標(biāo)像面區(qū)域；

29、光強(qiáng)獲取模塊，用于基于所述目標(biāo)像面區(qū)域，通過(guò)控制近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀移動(dòng)以獲取所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)；

30、均勻性確定模塊，用于根據(jù)所述成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)確定所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性。

31、第四方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，所述的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品包括計(jì)算機(jī)程序，其中，所述的計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)可實(shí)現(xiàn)第一方面任一實(shí)施例所述的方法。

32、第五方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種電子設(shè)備，包括存儲(chǔ)器、處理器以及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器上并可在所述處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序，其中，所述處理器執(zhí)行所述程序時(shí)可實(shí)現(xiàn)第一方面任一實(shí)施例所述的方法。

技術(shù)特征：

1.一種自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法，其特征在于，所述通過(guò)控制近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀移動(dòng)以獲取所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)，包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法，其特征在于，所述根據(jù)所述成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)確定所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性，包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法，其特征在于，所述根據(jù)所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列中每一列透鏡單元不同位置處的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)確定每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)的亮度均勻性，包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法，其特征在于，所述根據(jù)所述每一列透鏡單元對(duì)應(yīng)的亮度均勻性確定所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性，包括：

6.一種自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，包括光學(xué)平臺(tái)、目標(biāo)光源、待測(cè)自聚焦透鏡陣列、近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀和控制裝置；

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，還包括光闌；所述光闌用于將所述目標(biāo)光源的出射光線限制為適配于所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的形狀的光線。

8.一種自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)裝置，其特征在于，包括：

9.一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，其特征在于，所述的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品包括計(jì)算機(jī)程序，其中，所述的計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)可實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-5任一所述的自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法。

10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括存儲(chǔ)器、處理器以及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器上并可在所述處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序，其中，所述處理器執(zhí)行所述程序時(shí)可實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-5任一所述的自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性檢測(cè)方法、系統(tǒng)及裝置，涉及光學(xué)檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域。所述方法包括：確定目標(biāo)光源透過(guò)待測(cè)自聚焦透鏡陣列的目標(biāo)像面區(qū)域；基于所述目標(biāo)像面區(qū)域，通過(guò)控制近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀移動(dòng)以獲取所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)；根據(jù)所述成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)確定所述待測(cè)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性。本申請(qǐng)實(shí)施例通過(guò)控制近場(chǎng)光學(xué)探測(cè)儀移動(dòng)來(lái)依次獲取自聚焦透鏡陣列的成像光強(qiáng)數(shù)據(jù)，從而能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)自聚焦透鏡陣列的亮度均勻性進(jìn)行檢測(cè)。

技術(shù)研發(fā)人員：房艷,王旭東
受保護(hù)的技術(shù)使用者：飛秒光電科技(西安)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9