專利名稱：曝光裝置及曝光方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及曝光裝置及曝光方法，更具體地，涉及制造半導(dǎo)體、液晶顯示器面板或等離子顯示器等大型平板顯示器時(shí)使用的曝光裝置及曝光方法。
背景技術(shù)：
作為已有的曝光裝置，在使掩模和基板接近的狀態(tài)，通過掩模照射圖案曝光用光，由此在基板上曝光轉(zhuǎn)印掩模圖案(例如，參照專利文獻(xiàn)1和2)。
專利文獻(xiàn)1中記載的曝光裝置包括配置有掩模的2個(gè)框架、與2個(gè)框架分別對(duì)應(yīng)地裝載有基板的2個(gè)基板裝載臺(tái)、與2個(gè)基板裝載臺(tái)分別對(duì)應(yīng)配置的2個(gè)對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)，并且已知在組裝各個(gè)框架和基板裝載臺(tái)的狀態(tài)下使它們向曝光位置交替地移動(dòng)而進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印的裝載臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)。由此，裝載臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)通過2個(gè)基板裝載臺(tái)同時(shí)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)和曝光，能縮短生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。
而且，專利文獻(xiàn)2記載的曝光裝置包括裝載各個(gè)基板的多個(gè)基板裝載臺(tái)、在曝光位置測出基板裝載臺(tái)位置的第1檢測系統(tǒng)以及在觀測位置測出基板裝載臺(tái)位置的第2檢測系統(tǒng)，通過將多個(gè)基板裝載臺(tái)交替對(duì)準(zhǔn)在曝光位置而進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印。由此，利用2個(gè)測量系統(tǒng)，能不間歇地測量基板裝載臺(tái)的位置，從而準(zhǔn)確測量出裝載裝置的位置。
專利文獻(xiàn)1日本專利公開公報(bào)63-87725號(hào)專利文獻(xiàn)2日本專利公報(bào)第3203719號(hào)因此，在專利文獻(xiàn)1和2記載的曝光裝置中，雖然通過利用2個(gè)基板裝載臺(tái)能縮短生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間，但無論哪一種，都沒有記載向2個(gè)基板裝載臺(tái)搬運(yùn)基板，因此有進(jìn)一步改進(jìn)的空間。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是要解決前述技術(shù)問題，其目的在于，提供能有效地向2個(gè)基板裝載臺(tái)搬運(yùn)基板從而縮短進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印的基板的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間的曝光裝置和曝光方法。
本發(fā)明的上述目的通過以下結(jié)構(gòu)和方法實(shí)現(xiàn)。
(1)一種曝光裝置，其特征在于，包括用于保持掩模的掩模裝載臺(tái)，可在位于掩模裝載臺(tái)下方的曝光位置和第1待機(jī)位置之間移動(dòng)的第1基板裝載臺(tái)，可在曝光位置和第2待機(jī)位置之間移動(dòng)的第2基板裝載臺(tái)，通過前述掩模向保持在移動(dòng)到曝光位置的第1和第2基板裝載臺(tái)上的基板照射將圖案曝光用光的照射裝置，預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元，預(yù)先對(duì)準(zhǔn)供給到第1和第2基板裝載臺(tái)的基板的位置，第1基板裝載機(jī)，配置在預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元的側(cè)方，將基板搬運(yùn)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元，并且將已利用預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的基板搬運(yùn)到第1基板裝載臺(tái)，以及第2基板裝載機(jī)，相對(duì)于預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元而與第1基板裝載機(jī)對(duì)置地配置，將基板搬運(yùn)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元，并且將已利用預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的基板搬運(yùn)到第2基板裝載臺(tái)。
(2)一種利用(1)所述曝光裝置的曝光方法，其特征在于，具有使第1基板裝載臺(tái)從第1待機(jī)位置移動(dòng)到曝光位置并在保持于第1基板裝載臺(tái)上的基板上曝光轉(zhuǎn)印掩模的掩模圖案的第1曝光工序，由第2基板裝載機(jī)將已利用預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的基板搬運(yùn)到第2基板裝載臺(tái)的第1搬運(yùn)工序，
由第1基板裝載機(jī)將基板供給預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元并調(diào)整基板的位置的第1預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序，使第2基板裝載臺(tái)從第2待機(jī)位置移動(dòng)到曝光位置并在保持在第2基板裝載臺(tái)上的基板上曝光轉(zhuǎn)印掩模的掩模圖案的第2曝光工序，由第1基板裝載機(jī)將已利用前述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的基板搬運(yùn)到前述第1基板裝載臺(tái)的第2搬運(yùn)工序，和由第2基板裝載機(jī)將基板供給到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元并調(diào)整基板的位置的第2預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序，第1搬運(yùn)工序和第1預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序中的至少一個(gè)工序與第1曝光工序同時(shí)進(jìn)行，并且，第2搬運(yùn)工序和第2預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序中的至少一個(gè)工序與第2曝光工序同時(shí)進(jìn)行。
(3)如(2)記載的曝光方法，其特征在于，還包括在用于保持經(jīng)第1曝光工序曝光轉(zhuǎn)印后的基板的第1基板裝載臺(tái)從曝光位置移動(dòng)到第1待機(jī)位置之后，由第1基板裝載機(jī)排出基板的第1排出工序，和在用于保持經(jīng)第2曝光工序曝光轉(zhuǎn)印后的基板的第2基板裝載臺(tái)從曝光位置移動(dòng)到第2待機(jī)位置之后，由第2基板裝載機(jī)排出基板的第2排出工序，第2排出工序和第1曝光工序同時(shí)進(jìn)行，并且第1排出工序和第2曝光工序同時(shí)進(jìn)行。
(4)如(2)或(3)記載的曝光方法，其特征在于，第1基板裝載臺(tái)從第1待機(jī)位置移動(dòng)到曝光位置和第2基板裝載臺(tái)從曝光位置移動(dòng)到第2待機(jī)位置同步進(jìn)行，并且第2基板裝載臺(tái)從第2待機(jī)位置移動(dòng)到曝光位置和第1基板裝載臺(tái)從曝光位置移動(dòng)到第1待機(jī)位置同步進(jìn)行。
按照本發(fā)明的曝光裝置，由于具有掩模裝載臺(tái)、可相對(duì)于掩模裝載臺(tái)相對(duì)移動(dòng)的第1和第2基板裝載臺(tái)、預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14、相對(duì)于預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元而對(duì)置地配置的第1和第2基板裝載機(jī)，因此第1和第2基板裝載臺(tái)能夠共用預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元，簡化了曝光裝置的結(jié)構(gòu)，并且能有效地向2個(gè)基板裝載臺(tái)搬運(yùn)基板W，從而能縮短曝光轉(zhuǎn)印基板的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。
而且，按照本發(fā)明的曝光方法，由于在第1和第2基板裝載臺(tái)之一從待機(jī)位置移動(dòng)到曝光位置并對(duì)基板進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印的曝光工序期間，進(jìn)行將已預(yù)對(duì)準(zhǔn)的基板搬運(yùn)到另一基板裝載臺(tái)的搬運(yùn)工序和將基板供給到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元并調(diào)整位置的預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序中的至少一個(gè)工序，因此能夠明顯縮短基板的搬運(yùn)時(shí)間，有效地向2個(gè)基板裝載搬運(yùn)基板，從而能縮短曝光轉(zhuǎn)印基板的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。
另外，由于在上述曝光工序期間，在用于保持經(jīng)曝光工序曝光轉(zhuǎn)印后的基板的基板裝載臺(tái)從曝光位置移動(dòng)到待機(jī)位置之后，進(jìn)行由基板裝載機(jī)排出基板的排出工序，因而能夠明顯地進(jìn)一步縮短基板的搬運(yùn)時(shí)間，有效地向2個(gè)基板裝載臺(tái)搬運(yùn)基板，從而能縮短曝光轉(zhuǎn)印基板的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。
并且，由于第1基板裝載臺(tái)在第1待機(jī)位置和曝光位置間的移動(dòng)，與第2基板裝載臺(tái)在第2待機(jī)位置和曝光位置間的移動(dòng)同步進(jìn)行，因而能有效地向2個(gè)基板裝載臺(tái)搬運(yùn)基板，從而能進(jìn)一步縮短曝光轉(zhuǎn)印基板的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。


圖1是簡要示出本發(fā)明曝光裝置的總體結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖2是曝光裝置的主要部分的主視圖。
圖3是基板裝載臺(tái)的側(cè)視圖。
圖4是圖1中的基板裝載機(jī)的側(cè)視圖。
圖5是表示在曝光第1片基板的同時(shí)將第2片基板搬運(yùn)到基板裝載臺(tái)，且將第3片基板搬運(yùn)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元的狀態(tài)的說明圖。
圖6是表示在曝光第2片基板的同時(shí)排出已曝光轉(zhuǎn)印的第1片基板，并將第3片基板搬運(yùn)到基板裝載臺(tái)，且將第4片基板搬運(yùn)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元的狀態(tài)的說明圖。
圖7是表示基板裝載臺(tái)和基板裝載機(jī)在曝光動(dòng)作時(shí)的位置的曲線圖。
具體實(shí)施例方式
以下根據(jù)附圖詳細(xì)說明本發(fā)明曝光裝置和曝光方法的一實(shí)施方式。
圖1是簡要示出本發(fā)明曝光裝置的總體結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖2是曝光裝置的主要部分的主視圖，圖3是基板裝載臺(tái)的側(cè)視圖，圖4是圖1中的基板裝載機(jī)的側(cè)視圖。如圖1-3所示，曝光裝置PE包括掩模裝載臺(tái)10、第1基板裝載臺(tái)11、第2基板裝載臺(tái)12、照射裝置13、預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14、第1基板裝載機(jī)15、第2基板裝載機(jī)16、掩模裝載機(jī)17和掩模對(duì)準(zhǔn)器18，并分別裝在基臺(tái)21上。
掩模裝載臺(tái)10由多個(gè)支柱22支撐并配置在裝載臺(tái)底座23的上方，其中多個(gè)支柱22設(shè)置在配置在基臺(tái)21上的長方形裝載臺(tái)底座23上。多個(gè)支柱22在裝載臺(tái)底座23的上方形成空間，使得第1和第2基板裝載臺(tái)11、12可以在Y方向(圖1中左右方向)移動(dòng)，可以進(jìn)入掩模裝載臺(tái)10下方。掩模裝載臺(tái)10具有掩模保持部25，該保持部的中央具有矩形開口25a，且相對(duì)于掩模裝載臺(tái)10在X、Y、θ方向可調(diào)節(jié)位置地支撐在掩模裝載臺(tái)10上。具有待曝光圖案的掩模M與該開口25a相對(duì)地保持在掩模保持部25上。而且，掩模裝載臺(tái)10上設(shè)有檢測掩模M相對(duì)于掩模保持部25的位置的掩模用對(duì)準(zhǔn)照相機(jī)(未圖示)和檢測掩模M與基板W之間的間隙的間隙傳感器(未圖示)。
如圖2和圖3所示，第1和第2基板裝載臺(tái)11、12的上表面分別具有保持作為被曝光材料的基板W的基板保持部31a、31b。而且，在第1和第2基板裝載臺(tái)11、12的下方分別設(shè)有基板裝載臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)32、32，基板裝載臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)32、32具有Y軸工作臺(tái)33、Y軸傳送機(jī)構(gòu)34、X軸工作臺(tái)35、X軸傳送機(jī)構(gòu)36和Z向傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)37。各基板裝載臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)32、32相對(duì)于裝載臺(tái)底座23在X方向和Y方向傳送驅(qū)動(dòng)第1和第2基板裝載臺(tái)11、12，同時(shí)使第1和第2基板裝載臺(tái)11、12在Z軸方向微動(dòng)并傾斜，以便微調(diào)掩模M和基板W之間的間隙。
具體地，Y軸傳送機(jī)構(gòu)34在裝載臺(tái)底座23和Y軸工作臺(tái)33之間具有直線引導(dǎo)件38和Y軸傳送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)39。2條導(dǎo)軌40沿Y軸方向平行配置在裝載臺(tái)底座23上，安裝在Y軸工作臺(tái)33下表面的滑塊41通過滾動(dòng)體(未圖示)橫架在導(dǎo)軌上。由此，可沿著2條導(dǎo)軌40并沿Y軸方向移動(dòng)地支撐2臺(tái)Y軸裝載臺(tái)33、33。
而且，與第1和第2基板裝載臺(tái)11、12相應(yīng)，由馬達(dá)42旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的滾珠絲杠軸43分別設(shè)置在裝載臺(tái)底座23上，分別安裝在Y軸工作臺(tái)33下表面的滾珠絲杠螺母44與滾珠絲杠軸43螺合。
而且，如圖3所示，X軸傳送機(jī)構(gòu)36在Y軸工作臺(tái)33和X軸工作臺(tái)35之間也具有直線引導(dǎo)件45和X軸傳送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)46。2條導(dǎo)軌47沿X軸方向平行配置在Y軸工作臺(tái)33上，安裝在X軸工作臺(tái)35下表面的滑塊48通過滾動(dòng)體(未圖示)橫架設(shè)置。并且，由馬達(dá)49旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的滾珠絲杠軸50設(shè)置在Y軸工作臺(tái)33上，安裝在X軸工作臺(tái)35下表面的滾珠絲杠螺母51與滾珠絲杠軸50螺合。
另一方面，Z向-傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)37具有由馬達(dá)、滾珠絲杠和斜楔組合形成的可動(dòng)斜楔機(jī)構(gòu)，設(shè)置在X軸工作臺(tái)35上表面的馬達(dá)52旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)滾珠絲杠軸53，同時(shí)將滾珠絲杠螺母54組裝在楔形移動(dòng)體上，該斜楔的斜面與突出設(shè)置在基板裝載臺(tái)11、12的下表面上的斜楔55的斜面相配合。
而且，當(dāng)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)該滾珠絲杠軸53時(shí)，滾珠絲杠螺母54在X軸方向水平微動(dòng)，該水平微動(dòng)運(yùn)動(dòng)通過已組裝的楔形移動(dòng)體的斜面而變換成較高精度的上下微動(dòng)運(yùn)動(dòng)。該可動(dòng)斜楔機(jī)構(gòu)在X軸方向一端設(shè)置2臺(tái)，在另一端設(shè)置1臺(tái)(未圖示)，共設(shè)置3臺(tái)，分別對(duì)它們進(jìn)行獨(dú)立驅(qū)動(dòng)控制。
由此，Y軸傳送機(jī)構(gòu)34，為了將保持在各基板裝載臺(tái)11、12的基板保持部31a、31b上的基板W分別設(shè)置到配置在掩模裝載臺(tái)10下方的曝光位置EP上，使第1基板裝載臺(tái)11在第1待機(jī)位置WP1和曝光位置EP之間沿導(dǎo)軌40在Y軸方向移動(dòng)，使第2基板裝載臺(tái)12在第2待機(jī)位置WP2和曝光位置EP之間沿導(dǎo)軌40在Y軸方向移動(dòng)。而且，X軸傳送機(jī)構(gòu)36和Y軸傳送機(jī)構(gòu)34使第1和第2基板裝載臺(tái)11、12移動(dòng)，以便使位于曝光位置EP的基板保持部31a、31b相對(duì)于掩模M在X、Y方向步進(jìn)移動(dòng)。
另外，Y軸傳送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)39、X軸傳送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)46和可動(dòng)斜楔機(jī)構(gòu)雖然將馬達(dá)和滾珠絲杠裝置組合起來，但也可以由具有定子和轉(zhuǎn)子的線性馬達(dá)構(gòu)成。
而且，如圖1-圖3所示，在第1和第2基板裝載臺(tái)11、12上，在各基板保持部31a、31b的X方向側(cè)部和Y軸方向側(cè)部各自安裝有棒鏡(barmirror)61、62，而且，在裝載臺(tái)底座23的Y軸方向的兩側(cè)和裝載臺(tái)底座的X軸方向的一側(cè)設(shè)置有3臺(tái)激光干涉計(jì)63、64、65。由此，激光干涉計(jì)63、64、65的激光照射在棒鏡61、62上，通過接受由棒鏡61、62反射的激光，測量激光和由棒鏡61、62反射的激光之間的干涉，從而檢測出第1和第2裝載臺(tái)11、12的位置。
如圖2所示，照明裝置13配置在掩模保持部25的開口25a的上方，具有例如高壓水銀燈等紫外線照射用光源、凹面鏡、光學(xué)積分器、平面鏡、球面鏡和曝光控制用快門等。照明裝置13通過掩模將圖案曝光用光照射在基板W上，基板W保持在移動(dòng)到曝光位置的第1和第2基板裝載臺(tái)11、12的基板保持部31a、31b上。由此，掩模M的掩模圖案曝光轉(zhuǎn)印到基板W上。
將從設(shè)置在基臺(tái)21的外側(cè)的基板盒70A、70B搬運(yùn)的基板W供給到第1基板裝載臺(tái)11或第2基板裝載臺(tái)12之前，預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)，使得基板W相對(duì)于掩模M的位置為規(guī)定的位置，在圖中，預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14配置在掩模裝載臺(tái)10的前側(cè)。預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14具有未圖示的X軸傳送機(jī)構(gòu)、Y軸傳送機(jī)構(gòu)及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，并將載置在預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14上的基板W的位置調(diào)整到規(guī)定的位置。
第1基板裝載機(jī)15配置在圖1中的預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14的右側(cè)，其保持要供給到第2基板裝載臺(tái)12的基板W并搬運(yùn)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14，并且從預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14向第1基板裝載臺(tái)11搬運(yùn)已預(yù)對(duì)準(zhǔn)的基板W。
第2基板裝載機(jī)16，相對(duì)于預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14而與第1基板裝載機(jī)15對(duì)置地配置，即，配置在圖中的預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14的左側(cè)，其保持要供給到第1基板裝載臺(tái)11的基板W并搬運(yùn)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14，并且從預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14向第2基板裝載臺(tái)12搬運(yùn)已預(yù)對(duì)準(zhǔn)的基板W。
如圖4所示，第1和第2基板裝載機(jī)15、16是裝載機(jī)械手，其在固定在基臺(tái)21上的立柱81上可自由擺動(dòng)地設(shè)置有多個(gè)搬運(yùn)部82、83。多個(gè)搬運(yùn)部82、83通過升降機(jī)構(gòu)(未圖示)沿立柱81上下移動(dòng)，同時(shí)分別設(shè)置伺服馬達(dá)，以相互獨(dú)立地對(duì)上述搬運(yùn)部進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。各搬運(yùn)部82、83具有第1和第2臂84、85以及第一臂84前端的基板載置臺(tái)87，多個(gè)棒狀部件86平行地設(shè)置在基板載置臺(tái)上。而且，通過控制各自的伺服馬達(dá)而進(jìn)行動(dòng)作，使基板載置臺(tái)87升降、旋轉(zhuǎn)和移動(dòng)，從而搬運(yùn)基板載置臺(tái)87上的基板W。
具體地，第1基板裝載機(jī)15將收納于基板盒70A中的基板W載置到基板載置臺(tái)87上并向預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14搬運(yùn)，將已預(yù)對(duì)準(zhǔn)的基板W載置到基板載置臺(tái)87上并從預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14搬運(yùn)到第1基板裝載臺(tái)11，再將位于第1待機(jī)位置WP1的第1基板裝載臺(tái)11上的曝光轉(zhuǎn)印后的基板W載置到基板載置臺(tái)87上并搬運(yùn)到基板盒70A。
第2基板裝載機(jī)16將收納于基板盒70B中的基板W載置到基板載置臺(tái)87上并向預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14搬運(yùn)，將已預(yù)對(duì)準(zhǔn)的基板W載置到基板載置臺(tái)87上并從預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14搬運(yùn)到第2基板裝載臺(tái)12，再將位于第2待機(jī)位置WP2的第2基板裝載臺(tái)12上的曝光轉(zhuǎn)印后的基板W載置到基板載置臺(tái)87上并搬運(yùn)到基板盒70B。
而且，掩模裝載機(jī)17和掩模對(duì)準(zhǔn)器18，相對(duì)于第1基板裝載臺(tái)11而與第1基板裝載機(jī)15對(duì)置地配置。掩模裝載機(jī)17具有和圖4所示的第1和第2基板裝載機(jī)15、16大致相同的結(jié)構(gòu)，從設(shè)置在基臺(tái)21外側(cè)的掩模盒91搬入掩模M，將利用掩模對(duì)準(zhǔn)器18預(yù)對(duì)準(zhǔn)的掩模M供給到掩模裝載臺(tái)10。并且，關(guān)于向掩模裝載臺(tái)10供給掩模M，雖然也可以通過掩模裝載機(jī)17從掩模對(duì)準(zhǔn)器18直接向掩模裝載臺(tái)10供給掩模M，但也可以通過掩模裝載機(jī)17從掩模對(duì)準(zhǔn)器18向第1基板裝載臺(tái)11搬運(yùn)一次，然后通過第1基板裝載臺(tái)11向掩模裝載臺(tái)10供給。而且，掩模裝載機(jī)17的搬運(yùn)部可以和基板裝載機(jī)15、16一樣具有多個(gè)，也可以為一個(gè)。
下面參照?qǐng)D5至圖7詳細(xì)說明本發(fā)明曝光裝置PE的曝光方法。并且，為了方便說明，描述的是，第1基板裝載臺(tái)11保持基板W，已先預(yù)對(duì)準(zhǔn)的基板W已經(jīng)載置于預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14上。
如圖5所示，通過使Y軸傳送機(jī)構(gòu)34動(dòng)作，使保持第1片基板W且位于第1待機(jī)位置WP1的第1基板裝載臺(tái)11(圖中用單點(diǎn)劃線表示)移動(dòng)到曝光位置EP(箭頭A)。而且，使用未圖示的間隙照相機(jī)調(diào)整掩模M和基板W之間的間隙后，來自照明裝置13的第1次照射的圖案曝光用光通過掩模M照射在基板W上，從而形成在掩模M上的掩模圖案P曝光轉(zhuǎn)印到基板W上。進(jìn)一步，使第1基板裝載臺(tái)11步進(jìn)移動(dòng)，利用棒鏡61、62和激光干涉計(jì)63、64、65進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)調(diào)整，同時(shí)，在調(diào)整間隙后，利用第2次照射的圖案曝光用光將掩模圖案P曝光轉(zhuǎn)印到基板W上，以后，同樣地進(jìn)行步進(jìn)曝光。(第1曝光工序)另外，當(dāng)在間隙調(diào)整后進(jìn)行掩模M和基板W的對(duì)準(zhǔn)時(shí)，也可以用對(duì)準(zhǔn)照相機(jī)代替使用棒鏡61、62和激光干涉計(jì)63、64、65。此時(shí)，即使在第1次照射的曝光轉(zhuǎn)印時(shí)，在間隙調(diào)整后，也可以用該對(duì)準(zhǔn)照相機(jī)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)。
在進(jìn)行上述曝光轉(zhuǎn)印期間，由第2基板裝載機(jī)16沿箭頭B方向搬運(yùn)預(yù)對(duì)準(zhǔn)之后載置于預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14上的第2片基板W，并將其保持在位于第2待機(jī)位置WP2的第2基板裝載臺(tái)12上(第1搬運(yùn)工序)。進(jìn)一步，第1基板裝載機(jī)15接受收納于基板盒70A中的第3片基板W，沿箭頭C方向搬運(yùn)而供給到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14，并將基板W的位置調(diào)整到規(guī)定的位置(第1預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序)。
如圖6所示，在完成第1片基板W的曝光轉(zhuǎn)印后，第1基板裝載臺(tái)11從曝光位置EP移動(dòng)到第1待機(jī)位置EP1，第1基板裝載機(jī)15從第1基板裝載臺(tái)11接受基板W，并沿箭頭方向搬運(yùn)，將基板W排出到基板盒70A中(第1排出工序)。
而且，在開始上述第1排出工序的同時(shí)，開始第2片基板W的曝光工序。即，在第1基板裝載臺(tái)11從曝光位置EP移動(dòng)到第1待機(jī)位置WP1的同時(shí)，通過使Y軸傳送機(jī)構(gòu)34動(dòng)作，使保持第2片基板W的第2基板裝載臺(tái)12(圖中用單點(diǎn)劃線表示)從第2待機(jī)位置EP2移動(dòng)到曝光位置EP(箭頭E)。然后，和第1曝光工序同樣，在使用未圖示的間隙傳感器調(diào)整掩模M和基板W之間的間隙后，來自照明裝置13的第1次照射的圖案曝光用光通過掩模M照射在基板W上，從而將形成在掩模M上的掩模圖案P曝光轉(zhuǎn)印到保持在第2基板裝載臺(tái)12上的基板W上。進(jìn)一步，使第2基板裝載臺(tái)12步進(jìn)移動(dòng)，利用棒鏡61、62和激光干涉計(jì)63、64、65進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)調(diào)整，同時(shí)在調(diào)整間隙后，利用第2次照射的圖案曝光用光將掩模圖案P曝光轉(zhuǎn)印到基板W上，以后，同樣地進(jìn)行步進(jìn)曝光。(第2曝光工序)而且，在進(jìn)行第2曝光工序期間，由第1基板裝載機(jī)15沿箭頭F方向搬運(yùn)已預(yù)先對(duì)準(zhǔn)之后載置于預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14上的第3片基板W，并將其保持在位于第1待機(jī)位置WP1的第1基板裝載臺(tái)11上(第2搬運(yùn)工序)。進(jìn)一步，第2基板裝載機(jī)16接受收納于基板盒70B中的第4片基板W，沿箭頭G方向搬運(yùn)而供給到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14，并將基板W的位置調(diào)整到規(guī)定的位置(第2預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序)。
而且，在完成第2片基板W的曝光轉(zhuǎn)印后，第2基板裝載臺(tái)12從曝光位置EP移動(dòng)到第2待機(jī)位置EP2，第2基板裝載機(jī)16從第2基板裝載臺(tái)12接受基板W，并排出到基板盒70B中(第2排出工序)。而且，在開始該第2排出工序的同時(shí)，和第2基板裝載臺(tái)12同步地將第1基板裝載臺(tái)11從第1待機(jī)位置EP1移動(dòng)到曝光位置EP，進(jìn)行第1曝光工序。然后，如上所述，在進(jìn)行第1曝光工序期間，進(jìn)行第2排出工序、第1搬運(yùn)工序、第1預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序。
圖7表示第1和第2基板裝載臺(tái)11、12及第1和第2基板裝載機(jī)15、16在曝光動(dòng)作時(shí)的位置。
在本實(shí)施方式中，由于第1和第2基板裝載機(jī)15、16分別具有2個(gè)搬運(yùn)部82、83，因此，例如能夠利用其中一個(gè)搬運(yùn)部82使第1基板裝載臺(tái)11上的基板W排出到基板盒70B中，利用另外一個(gè)搬運(yùn)部83將已預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的基板W搬運(yùn)到第1基板裝載臺(tái)11上，從而能夠同時(shí)進(jìn)行第1搬運(yùn)工序和第2排出工序。但是，當(dāng)各基板裝載機(jī)15、16只有一個(gè)搬運(yùn)部時(shí)，也可以在第2排出工序之后進(jìn)行第1搬運(yùn)工序。
以后，通過反復(fù)進(jìn)行同樣的操作，一邊依次搬運(yùn)多個(gè)基板一邊將掩模圖案P曝光轉(zhuǎn)印到基板W上。
從而，按照本實(shí)施方式的曝光裝置PE，由于具有掩模裝載臺(tái)10、可相對(duì)于掩模裝載臺(tái)10相對(duì)移動(dòng)的第1和第2基板裝載臺(tái)11、12、預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14、相對(duì)于預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14而對(duì)置地配置的第1和第2基板裝載機(jī)15、16，因此第1和第2基板裝載臺(tái)11、12能夠共用預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14，簡化了曝光裝置PE的結(jié)構(gòu)，并且能有效地向2個(gè)基板裝載臺(tái)11、12搬運(yùn)基板W，能縮短曝光轉(zhuǎn)印基板的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。
而且，按照本發(fā)明的曝光方法，由于在使第1和第2基板裝載臺(tái)11、12的其中一方從待機(jī)位置WP1、WP2移動(dòng)到曝光位置EP并在基板W上進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印的曝光工序期間，使基板裝載臺(tái)11、12中的另一方從曝光位置EP移動(dòng)到待機(jī)位置WP1、WP2，之后，進(jìn)行排出已曝光轉(zhuǎn)印的基板W的排出工序、將已預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的基板W搬運(yùn)到另一基板裝載臺(tái)11、12的搬運(yùn)工序、將從基板盒70A、70B供給的基板W供給到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元14并調(diào)整位置的預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序，所以能夠明顯縮短基板W的搬運(yùn)時(shí)間，有效地向2個(gè)基板裝載臺(tái)11、12搬運(yùn)基板，從而縮短曝光轉(zhuǎn)印基板的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。
并且，由于第1基板裝載臺(tái)11從第1待機(jī)位置EP1移動(dòng)到曝光位置EP和第2基板裝載臺(tái)12從曝光位置EP移動(dòng)到第2待機(jī)位置EP2同步進(jìn)行，且第2基板裝載臺(tái)12從第2待機(jī)位置EP2移動(dòng)到曝光位置EP和第1基板裝載臺(tái)11從曝光位置EP移動(dòng)到第1待機(jī)位置EP1同步進(jìn)行，所以能有效地向2個(gè)基板裝載臺(tái)11、12搬運(yùn)基板，從而能進(jìn)一步縮短曝光轉(zhuǎn)印基板的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。
并且，本發(fā)明不限于前述實(shí)施方式，可以適當(dāng)?shù)刈冃魏透倪M(jìn)。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，其特征在于，包括用于保持掩模的掩模裝載臺(tái)；可在位于該掩模裝載臺(tái)下方的曝光位置和第1待機(jī)位置之間移動(dòng)的第1基板裝載臺(tái)；可在所述曝光位置和第2待機(jī)位置之間移動(dòng)的第2基板裝載臺(tái)；照射裝置，通過所述掩模向保持在移動(dòng)到所述曝光位置的所述第1和第2基板裝載臺(tái)上的基板照射圖案曝光用光；預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元，預(yù)先對(duì)準(zhǔn)供給到所述第1和第2基板裝載臺(tái)上的所述基板的位置；第1基板裝載機(jī)，配置在所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元的側(cè)方，將所述基板搬運(yùn)到所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元，并且將已利用所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的所述基板搬運(yùn)到所述第1基板裝載臺(tái)；以及第2基板裝載機(jī)，相對(duì)于所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元而與所述第1基板裝載機(jī)對(duì)置地配置，將所述基板搬運(yùn)到所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元，并將已利用所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的所述基板搬運(yùn)到所述第2基板裝載臺(tái)。
2.一種利用權(quán)利要求1所述曝光裝置的曝光方法，其特征在于，具有使所述第1基板裝載臺(tái)從所述第1待機(jī)位置移動(dòng)到所述曝光位置并在保持于所述第1基板裝載臺(tái)上的所述基板上曝光轉(zhuǎn)印所述掩模的掩模圖案的第1曝光工序；由所述第2基板裝載機(jī)將已利用所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的所述基板搬運(yùn)到所述第2基板裝載臺(tái)上的第1搬運(yùn)工序；由所述第1基板裝載機(jī)將所述基板供給到所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元上并調(diào)整所述基板的位置的第1預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序；使所述第2基板裝載臺(tái)從第2待機(jī)位置移動(dòng)到所述曝光位置并在保持于所述第2基板裝載臺(tái)上的所述基板上曝光轉(zhuǎn)印所述掩模的掩模圖案的第2曝光工序；由所述第1基板裝載機(jī)將已利用所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的所述基板搬運(yùn)到所述第1基板裝載臺(tái)上的第2搬運(yùn)工序；以及由所述第2基板裝載機(jī)將所述基板供給到所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元上并調(diào)整所述基板的位置的第2預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序；所述第1搬運(yùn)工序和所述第1預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序中的至少一個(gè)工序與所述第1曝光工序同時(shí)進(jìn)行；并且所述第2搬運(yùn)工序和所述第2預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序中的至少一個(gè)工序與所述第2曝光工序同時(shí)進(jìn)行。
3.如權(quán)利要求2所述的曝光方法，其特征在于，還包括在用于保持經(jīng)所述第1曝光工序曝光轉(zhuǎn)印后的所述基板的所述第1基板裝載臺(tái)從所述曝光位置移動(dòng)到所述第1待機(jī)位置之后，由所述第1基板裝載機(jī)排出所述基板的第1排出工序；和在用于保持經(jīng)所述第2曝光工序曝光轉(zhuǎn)印后的所述基板的所述第2基板裝載臺(tái)從所述曝光位置移動(dòng)到所述第2待機(jī)位置之后，由所述第2基板裝載機(jī)排出所述基板的第2排出工序；所述第2排出工序和所述第1曝光工序同時(shí)進(jìn)行，并且所述第1排出工序和所述第2曝光工序同時(shí)進(jìn)行。
4.如權(quán)利要求2或3所述的曝光方法，其特征在于，所述第1基板裝載臺(tái)從所述第1待機(jī)位置移動(dòng)到所述曝光位置和所述第2基板裝載臺(tái)從所述曝光位置移動(dòng)到所述第2待機(jī)位置同步進(jìn)行；并且所述第2基板裝載臺(tái)從所述第2待機(jī)位置移動(dòng)到所述曝光位置和所述第1基板裝載臺(tái)從所述曝光位置移動(dòng)到所述第1待機(jī)位置同步進(jìn)行。
全文摘要
提供了能有效地向2個(gè)基板裝載臺(tái)供給基板并能縮短制造曝光轉(zhuǎn)印基板的生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間的曝光裝置及曝光方法。曝光裝置PE包括掩模裝載臺(tái)(10)、可相對(duì)于掩模裝載臺(tái)(10)相對(duì)移動(dòng)的2個(gè)基板裝載臺(tái)(11、12)、預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元(14)、相對(duì)于預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元(14)而對(duì)置地配置的2個(gè)基板裝載機(jī)(15、16)。在使其中一個(gè)基板裝載臺(tái)(11)從待機(jī)位置WP1移動(dòng)到曝光位置EP并在基板W上曝光轉(zhuǎn)印掩模圖案期間，使另一基板裝載臺(tái)(12)從曝光位置EP移動(dòng)到待機(jī)位置WP2，之后排出已曝光轉(zhuǎn)印的基板W，由基板裝載機(jī)(16)將已預(yù)對(duì)準(zhǔn)的基板W搬運(yùn)到另一基板裝載臺(tái)(12)，并且由基板裝載機(jī)將基板W搬運(yùn)到預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元(14)。
文檔編號(hào)H01L21/027GK101063824SQ20071008689
公開日2007年10月31日 申請(qǐng)日期2007年4月2日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月24日
發(fā)明者宮下正弘, 富樫工 申請(qǐng)人:日本精工株式會(huì)社