技術(shù)編號：11152929
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于無掩膜光刻技術(shù)領(lǐng)域，更為具體地講，涉及一種用于DMD無掩膜光刻機的高速圖像曝光方法。背景技術(shù)傳統(tǒng)的投影式光刻中，曝光工藝所使用的光掩模的制作加工是一道比較繁瑣復(fù)雜的工序，對掩模和光刻工藝也有較高的要求，加工成本相對昂貴。為解決這一問題，一種基于數(shù)字微鏡器件(DMD)的數(shù)字無掩膜光刻技術(shù)逐漸得到了應(yīng)用?；贒MD的無掩模光刻技術(shù)可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源，具有很強的技術(shù)延伸性和工藝兼容性，滿足靈活、高效、低成本的要求，更易在光刻實踐中得到應(yīng)用，具有廣泛的應(yīng)用前...
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