技術編號：12347426
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。一種具有(004)晶面擇優(yōu)的銦錫氧化物薄膜材料的制備方法技術領域本發(fā)明涉及一種具有(004)晶面擇優(yōu)的銦錫氧化物薄膜材料的制備方法，屬于表面加工、涂層領域。背景技術銦錫氧化物(IndiumTinOxide,ITO)薄膜材料是一類重要的n型半導體功能材料，在光電轉換領域有重要的應用，如太陽能電池透明電極、平板顯示器透明電極、光電傳感器透明電極等。近年來，ITO薄膜材料制備過程中對ITO晶體結構和擇優(yōu)取向的控制越來越引起人們的關注，如非晶結構ITO薄膜材料、無擇優(yōu)體心立方鐵錳礦相多晶結構ITO薄膜材...
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