技術(shù)編號：2701552
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供，所述監(jiān)測方法包括步驟1）提供一包括圖形區(qū)域及外圍區(qū)域的光掩模，至少于所述外圍區(qū)域四個角落的預(yù)設(shè)中心坐標(biāo)制作標(biāo)記圖形，其中，所述標(biāo)記圖形由兩個垂直相交的橫向矩形與縱向矩形組成；2）測量各該標(biāo)記圖形的實際中心坐標(biāo)，并計算出各該標(biāo)記圖形的實際中心坐標(biāo)與預(yù)設(shè)中心坐標(biāo)的偏移量。本發(fā)明可以有效提高套刻精度監(jiān)測的簡易度、降低監(jiān)測的出錯概率、縮短工作周期；圖形標(biāo)記放置在光掩模板子的四個角上，遠離光刻的主圖形，既能很好的監(jiān)測位置精度，又不會對光刻的主圖形有任何影...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。