技術(shù)編號：2752560
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及硅半導(dǎo)體工藝，特別涉及一種調(diào)焦調(diào)平測量裝置。 背景技術(shù)在投影光刻裝置中，通常在投影物鏡和基底(例如，硅片)之間設(shè)置調(diào)焦調(diào)平測量 裝置以得到基底表面的形貌信息，例如特定區(qū)域高度和傾斜度等。調(diào)焦調(diào)平測量裝置通常 采用光學(xué)測量法等非接觸式測量，且要求的精度較高。然而，當(dāng)投影物鏡的焦面發(fā)生漂移時，調(diào)焦調(diào)平測量裝置的測量點中心將與投影 物鏡的曝光視場不重合，引起測量誤差。圖1為投影物鏡焦面發(fā)生漂移時引起測量誤差的 原理示意圖。圖1中，假設(shè)橫向坐標(biāo)軸為Z軸，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。