技術(shù)編號(hào)：3365307
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。主動(dòng)控制弧斑的電弧蒸發(fā)源及使用該蒸發(fā)源的設(shè)備本發(fā)明屬真空電弧離子鍍。更具體地，本發(fā)明涉及一種主動(dòng)控制弧斑的 電弧蒸發(fā)源，本發(fā)明還涉及使用該電弧蒸發(fā)源的真空電弧離子鍍?cè)O(shè)備。背景技術(shù)真空電弧離子鍍是一種在真空環(huán)境下采用弧光放電將反應(yīng)物沉積在基板上的離 子鍍技術(shù)。真空電弧離子鍍的原理是把陰極靶作為蒸發(fā)源，通過靶與陽極殼體之間的弧光 放電，使靶材蒸發(fā)，在空間中形成等離子體，從而沉積在基板上。真空電弧離子鍍?cè)O(shè)備由弧 光蒸發(fā)源、真空室和基板組成。在弧光蒸發(fā)源中，材料作...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。