技術(shù)編號(hào)：3710447

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本發(fā)明涉及一種適合用于超微平版印刷的抗反射的聚合物、含有該聚合物的組合物及該聚合物的制備方法。更具體地，本發(fā)明涉及一種在超微平版印刷過程中可以用于抗反射涂層、以降低或阻止光的背反射和/或消除光刻膠層中的駐波影響的聚合物。本發(fā)明還涉及一種包含該聚合物的組合物及其使用方法。在大多數(shù)的超微平版印刷過程中，由于涂于基體上的較低層的光學(xué)性能和/或涂于其上的光敏(即光刻膠)膜的厚度變化，因此不可避免地出現(xiàn)駐波和/或光波的反射刻痕。另外，一般的超微平版印刷過程還會(huì)遇到因...
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