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DPS金屬刻蝕腔體刻蝕氧化釩的方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):40612339

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本公開(kāi)涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,更具體地涉及一種dps金屬刻蝕腔體刻蝕氧化釩的方法。背景技術(shù)、基于mems技術(shù)的氧化釩測(cè)輻射熱計(jì)是一種新型的熱成像技術(shù)。其工作原理主要涉及到在氮化硅和氧化硅基底上制備氧化釩薄膜,并對(duì)這些薄膜進(jìn)行熱敏性能測(cè)試。研究表明,氮化硅基底上制備的氧化釩薄膜具有更優(yōu)的紅外探測(cè)性能。與傳統(tǒng)的熱成像技術(shù)相比,氧化釩mems技術(shù)具有響應(yīng)速度快、分辨率高、體積小、功耗低等優(yōu)勢(shì)。、熱成像技術(shù)是一種基于物體表面的紅外輻射特征來(lái)對(duì)物體進(jìn)行表征的技術(shù)方法。物體表面的紅外輻射強(qiáng)度與物體表面的溫度有著...
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