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一種用于剝離的雙層膠光刻工藝方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):40615195

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本發(fā)明屬于半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域,特別涉及一種用于剝離的雙層膠光刻工藝方法。背景技術(shù)、剝離工藝是半導(dǎo)體工藝中圖形化鍍膜的常用方法,步驟包括在襯底上光刻制作圖形化光刻膠,然后鍍膜,再通過(guò)溶劑溶解光刻膠并剝離光刻膠上的薄膜,獲得襯底上圖形化薄膜。其中光刻步驟尤為關(guān)鍵。正性光刻膠光刻后形成正梯形光刻膠結(jié)構(gòu),不利于后續(xù)薄膜的剝離。負(fù)性光刻膠光刻后形成底切的倒梯形光刻膠結(jié)構(gòu),有利于后續(xù)薄膜剝離。然而負(fù)性光刻膠工藝存在圖形精度不高且底切不明顯的問(wèn)題。為了解決這些問(wèn)題,基于非光敏性光刻膠的雙層膠光刻工藝被開(kāi)發(fā)出來(lái),...
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