技術(shù)編號：9234411
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 隨著各行業(yè)對LCD、L邸面板的需求量不斷擴大，生產(chǎn)廠家對微米級分辨率光刻的 高產(chǎn)率要求逐漸凸顯，該就要求光刻機物鏡的視場變得更大。同時，為了盡可能增加利潤空 間，對光刻機物鏡制作的時間周期和價格成本也必須有很好的控制。 日本專利JP2006266738A公布了一種應(yīng)用于365nm波長的大面積光刻投影物鏡， 其像方有效視場為132mmX132mm，像方NA為0. 145。光學(xué)系統(tǒng)總共包含27片鏡片，其中應(yīng) 用了 1個非球面。 中國專利CN103837967...
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