技術(shù)編號(hào)：9355077
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利說明極紫外光刻的光學(xué)元件和光學(xué)系統(tǒng)及處理這種光學(xué)元件的 方法 相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用 本申請(qǐng)要求于2013年3月15日提交的德國(guó)專利申請(qǐng)No. 102013102670. 2的優(yōu)先 權(quán)，該德國(guó)專利申請(qǐng)的全部公開內(nèi)容被認(rèn)為是本申請(qǐng)的公開內(nèi)容的一部分，并通過引入并 入本申請(qǐng)的公開內(nèi)容。 本發(fā)明涉及一種光學(xué)元件，包括基板、施加到基板的EUV輻射反射式多層系統(tǒng)以 及施加到多層系統(tǒng)并具有至少第一和第二層的保護(hù)層系統(tǒng)，其中，第一層布置成比第二層 更接近多層系統(tǒng)。第一層...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。