1.一種單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)，其特征在于，所述單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)包括鉛板(1)，所述鉛板(1)為圓盤(pán)狀結(jié)構(gòu)，所述鉛板(1)上設(shè)置有鉛縫(10)；
所述鉛縫(10)包括第一X縫體(101)、第二X縫體(102)、第一Y縫體(103)和第二Y縫體(104)，所述第一X縫體(101)與所述第二X縫體(102)互相平行設(shè)置，所述第一Y縫體(103)與所述第二Y縫體(104)互相平行設(shè)置，且所述第一X縫體(101)于所述第一Y縫體(103)垂直設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)，其特征在于，所述鉛板(1)的圓周上設(shè)置有標(biāo)記點(diǎn)(11)，所述標(biāo)記點(diǎn)(11)位于所述鉛縫(10)的中點(diǎn)與所述鉛板(1)的中心的連線的延長(zhǎng)線上。
3.如權(quán)利要求1所述的單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)，其特征在于，所述第一X縫體(101)與所述第二X縫體(102)關(guān)于所述鉛板(1)的中心對(duì)稱，所述第一Y縫體(103)與所述第二Y縫體(104)關(guān)于所述鉛板(1)的中心對(duì)稱。
4.如權(quán)利要求1所述的單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)，其特征在于，所述第一X縫體(101)與所述第二X縫體(102)之間的距離和所述第一Y縫體(103)與所述第二Y縫體(104)之間的距離相等。
5.如權(quán)利要求1所述的單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)，其特征在于，所述鉛縫(10)的寬度為1±0.02mm，所述鉛縫(10)的長(zhǎng)度為10cm。
6.如權(quán)利要求1所述的單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)，其特征在于，所述第一X縫體(101)與所述第二X縫體(102)之間的距離為3～15cm，所述第一Y縫體(103)與所述第二Y縫體(104)之間的距離為3～15cm。
7.如權(quán)利要求1所述的單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)，其特征在于，所述單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)還包括毛細(xì)管，所述毛細(xì)管放置在所述鉛縫(10)內(nèi)。
8.如權(quán)利要求1所述的單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)，其特征在于，所述單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)還包括襯板，所述襯板為有機(jī)玻璃材質(zhì)，所述襯板放置在所述鉛板(1)的下方。
9.如權(quán)利要求8所述的單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備系統(tǒng)空間分辨力檢測(cè)模型(100)，其特征在于，所述襯板為圓盤(pán)狀，且所述襯板的直徑與所述鉛板(1)的直徑相等。