1.一種蒸鍍裝置，其是在蒸鍍室中具備蒸發(fā)源設置部的蒸鍍裝置，所述蒸發(fā)源設置部用于設置收納成膜材料的蒸發(fā)源，其特征在于，
所述蒸鍍裝置構成為，在所述蒸鍍裝置中設置有包圍所述蒸發(fā)源設置部的遮蔽部，在所述遮蔽部的上方位置設置有限制板，所述限制板用于限制從設置于所述蒸發(fā)源設置部的蒸發(fā)源朝向基板釋放出的成膜材料的蒸發(fā)粒子相對于基板的入射角，在所述遮蔽部中設置有開閉部。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
所述限制板設置于在維護時也不進行開閉的固定支承部件上。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
所述開閉部在蒸鍍時閉合，在維護時打開。
4.根據權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
所述固定支承部件構成為框狀，所述框狀具有容許所述開閉部的開閉動作的開口。
5.根據權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
所述固定支承部件設置在不對所述開閉部的開閉動作產生干涉的位置。
6.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
在包圍所述蒸發(fā)源設置部的四周的所述遮蔽部的與所述蒸發(fā)源設置部的長度方向的側面對置的位置處設置了所述開閉部。
7.根據權利要求6所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
所述遮蔽部構成為：在將所述開閉部設置成打開狀態(tài)時，設在所述蒸發(fā)源設置部的蒸發(fā)源在其長度方向的全長上從該開閉部露出。
8.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
所述限制板被設置成相對于所述遮蔽部能夠自由活動。
9.根據權利要求1～8中的任意一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
使包圍所述蒸發(fā)源設置部的所述遮蔽部的開口部開閉的擋板被設置成相對于所述遮蔽部能夠自由活動。
10.一種蒸鍍裝置，其具備：
蒸發(fā)源設置部，其用于設置收納成膜材料的蒸發(fā)源；和
遮蔽部，其包圍所述蒸發(fā)源設置部的四周，
其特征在于，
所述遮蔽部具有開閉結構。
11.根據權利要求10所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
所述蒸發(fā)源設置部被設置在蒸發(fā)源支承體上，
所述遮蔽部具備：隔著所述蒸發(fā)源設置部對置的一對固定部件；和在所述一對固定部件之間隔著所述蒸發(fā)源設置部對置的一對部件，
所述一對固定部件固定于所述蒸發(fā)源支承體，
所述一對部件中的至少一方是通過設置于其兩端部的樞軸安裝部樞軸安裝于所述一對固定部件的內表面下部的可動部件。
12.根據權利要求11所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
所述蒸發(fā)源設置部形成為在一個方向上較長的形狀，
所述可動部件沿著所述蒸發(fā)源設置部的長度方向設置。
13.根據權利要求11或12所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
在所述蒸發(fā)源支承體上設置有包圍所述蒸發(fā)源設置部的框狀的固定支承部件，在所述固定支承部件的上表面設有限制板。
14.根據權利要求13所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
構成所述固定支承部件的框在所述蒸發(fā)源設置部的長度方向上的間隔比所述可動部件在所述蒸發(fā)源設置部的長度方向上的長度長。
15.一種蒸鍍裝置，其是在蒸鍍室中設置蒸發(fā)源而成的蒸鍍裝置，其中，所述蒸發(fā)源隔著掩模對基板進行蒸鍍，其特征在于，
所述蒸鍍裝置構成為，在所述蒸鍍裝置中設有包圍所述蒸發(fā)源的遮蔽部，在所述遮蔽部的上方位置設置有限制板，所述限制板用于限制從所述蒸發(fā)源朝向所述基板飛散的成膜材料相對于基板的入射角，
在所述遮蔽部中設有維護用開閉部，所述維護用開閉部在維護時開閉從而使所述蒸發(fā)源露出或隱藏，所述限制板設置于在維護時也不進行開閉的固定支承部件上。