專利名稱：一種專用于微流控芯片制作的光刻機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光光刻蝕技術(shù)，特別提供了一種專門用于微全分析系統(tǒng)中微流控芯片制作的經(jīng)濟(jì)、實(shí)用型光刻機(jī)。
本實(shí)用新型提供了一種專用于微流控芯片制作光刻機(jī)，其特征在于該光刻機(jī)主要由一暗箱(1)、一高壓汞燈(2)、一勻光透鏡(3)組合而成，高壓汞燈(2)置于暗箱(1)中并裝在箱壁上，勻光透鏡(3)置于與其相對(duì)的箱壁上。
本實(shí)用新型專用于微流控芯片制作光刻機(jī)中，所述高壓汞燈(2)通過(guò)與其相匹配的限流器、電子觸發(fā)器接電源。
本實(shí)用新型具有下述優(yōu)點(diǎn)1造價(jià)低廉，一般市場(chǎng)銷售的同樣性能的光刻機(jī)價(jià)格在16萬(wàn)人民幣左右，本發(fā)明的光刻機(jī)造價(jià)在0.1萬(wàn)人民幣以內(nèi)。
2性能可靠，性能上完全可滿足電泳芯片制造及一般微機(jī)械加工的需要。
3結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便。
權(quán)利要求1.一種專用于微流控芯片制作光刻機(jī)，其特征在于該光刻機(jī)主要由一暗箱(1)、一高壓汞燈(2)、一勻光透鏡(3)組合而成，高壓汞燈(2)置于暗箱(1)中并裝在箱壁上，勻光透鏡(3)置于與其相對(duì)的箱壁上。
2.按權(quán)利要求1所述專用于微流控芯片制作光刻機(jī)，其特征在于所述高壓汞燈(2)通過(guò)與其相匹配的限流器、電子觸發(fā)器接電源。
專利摘要一種專用于微流控芯片制作光刻機(jī)，其特征在于該光刻機(jī)主要由一暗箱、一高壓汞燈、一勻光透鏡組合而成，高壓汞燈置于暗箱中并裝在箱壁上，勻光透鏡置于與其相對(duì)的箱壁上。本實(shí)用新型造價(jià)低廉，性能可靠，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便。
文檔編號(hào)G03F7/20GK2555525SQ0227423
公開(kāi)日2003年6月11日 申請(qǐng)日期2002年7月18日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月18日
發(fā)明者戴忠鵬, 林炳承 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所