技術(shù)總結(jié)
一種曝光工藝的檢驗方法、檢驗系統(tǒng)及測試掩膜板，用于檢驗曝光機(jī)擋光片的開口大小，所述檢驗方法包括：提供晶圓；提供測試掩膜板，所述測試掩膜板上形成有第一測試圖形和第二測試圖形；先對第一測試圖形進(jìn)行曝光，再對第二測試圖形進(jìn)行曝光，先后在晶圓上形成第一對準(zhǔn)圖形和第二對準(zhǔn)圖形，第一對準(zhǔn)圖形和第二對準(zhǔn)圖形之間的距離根據(jù)擋光片的允許偏差范圍而定；采用曝光機(jī)對所述第一對準(zhǔn)圖形和第二對準(zhǔn)圖形進(jìn)行對準(zhǔn)測試。本發(fā)明先形成第一對準(zhǔn)圖形和第二對準(zhǔn)圖形再采用曝光機(jī)進(jìn)行對準(zhǔn)測試，如果檢測不到第一對準(zhǔn)圖形，則判斷擋光片的開口過大；如果檢測不到第二對準(zhǔn)圖形，則判斷擋光片的開口過小，從而提高了檢驗擋光片開口大小的可靠性和精度。

技術(shù)研發(fā)人員：王清蘊(yùn);盧子軒
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司
文檔號碼：201510703676
技術(shù)研發(fā)日：2015.10.26
技術(shù)公布日：2017.05.03