1.一種真空吸附滑動裝置，其特征在于，包括滑軌、滑塊和升降板，所述升降板位于所述滑塊的上方，所述升降板與所述滑塊平行，所述滑塊的頂面上設置有一凹槽，所述真空吸附滑動裝置所吸附的被吸附板設置在所述凹槽內，所述升降板上垂直設置有兩根升降桿，所述兩根升降桿的底端均設置有吸嘴，所述升降板上還設置有驅動所述升降板進行升降和水平運動的驅動裝置，所述滑塊設置有滑槽，所述滑槽與所述滑軌配合使所述滑塊可以在所述滑軌上滑動。
2.根據權利要求1所述的真空吸附滑動裝置，其特征在于，所述升降桿為中空的管狀，所述升降桿的頂端連接有氣管，所述氣管內充有負壓氣體。
3.根據權利要求1所述的真空吸附滑動裝置，其特征在于，所述滑塊上設置有定位銷，所述被吸附板上設置有定位孔，所述定位銷與定位孔間隙配合。
4.根據權利要求2所述的真空吸附滑動裝置，其特征在于，所述吸嘴與所述升降桿的所述中空部分連通。