1.一種提高氣流中心粉體濃度的彎頭分離裝置，其具有彎頭本體，其特征在于，所述彎頭本體的進(jìn)料端與管道連接件的出料端連通，所述管道連接件中同軸固定有濃縮環(huán)，沿氣流運(yùn)動(dòng)方向，所述濃縮環(huán)形成的氣流通道由三段構(gòu)成，依次為直徑逐漸變小的第一氣流通道、圓柱形的第二氣流通道、以及直徑逐漸變大的第三氣流通道。
2.如權(quán)利要求1所述的提高氣流中心粉體濃度的彎頭分離裝置，其特征在于，還包括均設(shè)置于彎頭本體內(nèi)的外隔離板和內(nèi)隔離板；
所述外隔離板為非封閉圓弧或多邊形板體結(jié)構(gòu)，其貼近彎頭本體的外曲面延伸；
所述內(nèi)隔離板為非封閉圓弧或多邊形板體結(jié)構(gòu)，其貼近彎頭本體的內(nèi)曲面延伸；
其中，所述外隔離板和內(nèi)隔離板的彎曲方向與彎頭本體的彎曲方向相同，外隔離板的彎角角度大于內(nèi)隔離板的彎角角度。
3.如權(quán)利要求2所述的提高氣流中心粉體濃度的彎頭分離裝置，其特征在于，所述外隔離板與彎頭本體中心線的距離L1設(shè)置為：0＜L1＜0.4D，D為彎頭本體的直徑。
4.如權(quán)利要求2或3所述的提高氣流中心粉體濃度的彎頭分離裝置，其特征在于，所述內(nèi)隔離板與彎頭本體中心線的距離L2設(shè)置為：0＜L2＜0.4D，D為彎頭本體的直徑。
5.如權(quán)利要求4所述的提高氣流中心粉體濃度的彎頭分離裝置，其特征在于，外隔離板的下端與濃縮環(huán)的距離L3、內(nèi)隔離板的下端與濃縮環(huán)的距離L4設(shè)置為：0≤L3≤L4。
6.如權(quán)利要求2所述的提高氣流中心粉體濃度的彎頭分離裝置，其特征在于，所述外隔離板的彎角角度β以及內(nèi)隔離板的彎角角度θ設(shè)置為：0°＜θ＜β≤90°。
7.如權(quán)利要求6所述的提高氣流中心粉體濃度的彎頭分離裝置，其特征在于，所述彎頭本體的彎角角度為30°≤α≤90°；θ＜α，α＝β。
8.如權(quán)利要求2所述的提高氣流中心粉體濃度的彎頭分離裝置，其特征在于，還包括防磨套管，其穿過所述外隔離板進(jìn)入彎頭本體內(nèi)，并靠近彎頭本體的出料端設(shè)置。