本發(fā)明屬于金相樣品制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種釹鐵硼鑄片斷面金相分析制樣方法。

背景技術(shù)：

燒結(jié)釹鐵硼鑄片在生產(chǎn)過程中控制的厚度集中在0.2～0.4mm范圍，屬于一種脆性、片狀、不規(guī)則材料，在對其進(jìn)行斷面進(jìn)行分析時，主要是選擇垂直于貼輥面的斷面作為判斷觀察面，對磨拋方向要求較高，目前通常采用樹脂鑲嵌法進(jìn)行制樣。但這種方法有三種缺點(diǎn)：1.分析成本較高，需要用到專用的金相鑲嵌機(jī)、磨拋機(jī)及電木等樹脂粉作為原料；2.合格率難保證，鑲嵌過程對方向及力度控制要求高，樹脂粉在壓制過程中容易發(fā)生偏移而導(dǎo)致磨拋方向發(fā)生錯位，或壓制壓力過大導(dǎo)致鑄片斷裂甚至破碎，制樣合格率難控制；3.樹脂固化后，無法重復(fù)使用且無法輕易取出樣品；4.制樣周期長，鑲嵌過程需要進(jìn)行壓制、加熱和冷卻，鑲嵌后還需要進(jìn)行長時間拋磨，時間浪費(fèi)較多。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種釹鐵硼鑄片斷面金相分析制樣方法。

本發(fā)明通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)。

一種釹鐵硼鑄片斷面金相分析制樣方法，包括以下步驟：

1)取樣：選擇垂直于貼輥面且條紋清晰可見、間隙均勻分布的一面進(jìn)行扳斷，獲得鑄片斷面，用尖嘴鉗對斷面進(jìn)行平整度修整；2)打磨鑄片斷面：將步驟1)鑄片斷面依次在三種砂紙上朝同一個方向進(jìn)行磨拋；3)腐蝕鑄片斷面：使用浸蝕劑對步驟2)鑄片斷面拋光面進(jìn)行腐蝕；4)清理鑄片斷面：使用無水乙醇清洗步驟3)鑄片斷面被腐蝕面，用洗耳球吹干，獲得金相樣品。

所述的鑄片斷面取自厚度在0.2～0.4mm的釹鐵硼鑄片，且修整后獲得鑄片斷面的井深不超過0.5mm。

所述的三種砂紙分別為1#、4#和5#金相砂紙。

所述的磨拋每次僅在一種砂紙上進(jìn)行，且按1#、4#和5#的順序進(jìn)行，在每張砂紙上磨拋時間控制在50～300秒。

所述的打磨的操作步驟如下：砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟1)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線距離控制在1～25cm，且不超出砂紙范圍，避免每次直線運(yùn)動的痕跡重復(fù)。

所述的浸蝕劑為體積比為1～9:1的無水乙醇和硝酸混合液。

所述的腐蝕的操作步驟如下：使用棉簽將所述浸蝕劑涂抹在步驟2)所述的磨拋面上，并來回擦拭1～50秒，總腐蝕時間控制在50～300秒。

所述的清理的操作步驟為：用棉簽將無水乙醇蘸到步驟3)所述的被腐蝕面上，并沿同一方向進(jìn)行擦拭，清理時間控制在10～300秒。

本發(fā)明的有益效果在于：

(1)效率高，采用本發(fā)明方法，不需進(jìn)行鑲嵌，單個鑄片斷面金相制樣過程可控制在15分鐘以內(nèi)，大幅度提高了鑄片斷面金相分析樣品制作效率。

(2)制樣成本低，本發(fā)明提高了一種不使用鑲嵌的方法，不需要使用鑲嵌機(jī)、鑲嵌粉和磨拋機(jī)，有效降低了鑄片金相樣品的制備成本。

(3)合格率提高，采用本發(fā)明方法，磨拋過程中間對樣品磨拋方向不斷進(jìn)行修正和調(diào)整，過程磨拋的力度也可以隨時調(diào)整避免鑄片碎裂，保證了樣品的制備合格率。

(4)樣品易回收，采用本發(fā)明方法，鑄片斷面金相分析樣品未與其它物料結(jié)合或鑲嵌，樣品回收較方便快捷。

具體實(shí)施方式

下面進(jìn)一步描述本發(fā)明的技術(shù)方案，但要求保護(hù)的范圍并不局限于所述。

實(shí)施例一

一種釹鐵硼鑄片斷面金相分析制樣方法，包括以下步驟：

1)取樣：選擇貼輥面平整，其條紋清晰可見且間隙均勻分布的厚度在0.2mm的釹鐵硼鑄片，選擇垂直于貼輥面條紋的一面進(jìn)行扳斷，獲得斷面，用鑷子對斷面進(jìn)行平整度修整，獲得一個斷面井深小于0.2mm的相對平整斷面；

2)打磨鑄片斷面：將1#金相砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟1)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線的距離控制在5cm，不超出砂紙范圍，每次直線運(yùn)動的痕跡不重復(fù)，磨拋時間控制為50秒；將4#金相砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟2)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線距離控制在10cm，不超出砂紙范圍，每次直線運(yùn)動的痕跡不重復(fù)，磨拋時間控制為50秒；將5#金相砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟3)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線距離控制在5cm，不超出砂紙范圍，每次直線運(yùn)動的痕跡不重復(fù)，磨拋時間控制為50秒。

3)腐蝕鑄片斷面：使用新棉簽將無水乙醇：硝酸的體積比為1:1的混合液涂抹在步驟2)完成的磨拋面上，并來回擦拭進(jìn)行腐蝕,10秒后更換棉簽，總腐蝕時間控制在50秒。

4)清理鑄片斷面：使用新棉簽將無水乙醇蘸到步驟3)完成的被腐蝕面上，并沿同一方向進(jìn)行擦拭，同一根棉簽擦拭次數(shù)達(dá)10次即更換新棉簽，清理時間控制為100秒，然后用洗耳球?qū)悠犯g面進(jìn)行吹干，即獲得釹鐵硼斷面金相分析樣品。

實(shí)施例二

一種釹鐵硼鑄片斷面金相分析制樣方法，包括以下步驟：

1)取樣：選擇貼輥面平整，其條紋清晰可見且間隙均勻分布的厚度在0.25mm的釹鐵硼鑄片，選擇垂直于貼輥面條紋的一面進(jìn)行扳斷，獲得斷面，用鑷子對斷面進(jìn)行平整度修整，獲得一個斷面井深小于0.4mm的相對平整斷面；

2)打磨鑄片斷面：將1#金相砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟1)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線的距離控制在12cm，不超出砂紙范圍，每次直線運(yùn)動的痕跡不重復(fù)，磨拋時間控制為150秒；將4#金相砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟2)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線距離控制在12cm，不超出砂紙范圍，每次直線運(yùn)動的痕跡不重復(fù)，磨拋時間控制為150秒；將5#金相砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟3)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線距離控制在15cm，不超出砂紙范圍，每次直線運(yùn)動的痕跡不重復(fù)，磨拋時間控制為150秒。

3)腐蝕鑄片斷面：使用新棉簽將無水乙醇：硝酸的體積比為6:1的混合液涂抹在步驟2)完成的磨拋面上，并來回擦拭進(jìn)行腐蝕,30秒后更換棉簽，總腐蝕時間控制在150秒。

4)清理鑄片斷面：使用新棉簽將無水乙醇蘸到步驟3)完成的被腐蝕面上，并沿同一方向進(jìn)行擦拭，同一根棉簽擦拭次數(shù)達(dá)10次即更換新棉簽，清理時間控制為150秒，然后用洗耳球?qū)悠犯g面進(jìn)行吹干，即獲得釹鐵硼斷面金相分析樣品。

實(shí)施例三

一種釹鐵硼鑄片斷面金相分析制樣方法，包括以下步驟：

1)取樣：選擇貼輥面平整，其條紋清晰可見且間隙均勻分布的厚度在0.4mm的釹鐵硼鑄片，選擇垂直于貼輥面條紋的一面進(jìn)行扳斷，獲得斷面，用鑷子對斷面進(jìn)行平整度修整，獲得一個斷面井深小于0.5mm的相對平整斷面；

2)打磨鑄片斷面：將1#金相砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟1)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線的距離控制在25cm，不超出砂紙范圍，每次直線運(yùn)動的痕跡不重復(fù)，磨拋時間控制為300秒；將4#金相砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟2)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線距離控制在25cm，不超出砂紙范圍，每次直線運(yùn)動的痕跡不重復(fù)，磨拋時間控制為300秒；將5#金相砂紙平整擺放在硬質(zhì)平面上，以大拇指和食指將步驟3)中樣品豎直夾住，將樣品修整面按在砂紙上朝同一方向磨拋，以直線動作磨拋，直線距離控制在25cm，不超出砂紙范圍，每次直線運(yùn)動的痕跡不重復(fù)，磨拋時間控制為300秒。

3)腐蝕鑄片斷面：使用新棉簽將無水乙醇：硝酸的體積比為9:1的混合液涂抹在步驟2)完成的磨拋面上，并來回擦拭進(jìn)行腐蝕,50秒后更換棉簽，總腐蝕時間控制在300秒。

4)清理鑄片斷面：使用新棉簽將無水乙醇蘸到步驟3)完成的被腐蝕面上，并沿同一方向進(jìn)行擦拭，同一根棉簽擦拭次數(shù)達(dá)10次即更換新棉簽，清理時間控制為300秒，然后用洗耳球?qū)悠犯g面進(jìn)行吹干，即獲得釹鐵硼斷面金相分析樣品。