技術(shù)特征：

1.一種方法，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述罩蓋為第一罩蓋，并且所述方法另外包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法另外包括在將所述罩蓋耦合到所述第一基板之前或之后形成所述對準(zhǔn)凹部。

5.一種方法，其特征在于，包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，另外包括：

7.一種微機電系統(tǒng)(mems)裝置，其特征在于，包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述罩蓋為第一罩蓋，并且所述裝置另外包括：

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，另外包括：

技術(shù)總結(jié)
形成于例如用于MEMS裝置的罩蓋的罩蓋基板中的對準(zhǔn)凹部允許將第二基板接合到所述罩蓋基板。所述對準(zhǔn)凹部大于所述第二基板，且具有彼此對角地相對的兩個拐角區(qū)，其中所述凹部的壁突出以形成凹口。所述凹口尺寸設(shè)定成使得當(dāng)所述第二基板安置在所述凹部內(nèi)且兩個相對的拐角被所述凹部的相應(yīng)凹口包圍時，所述第二基板相對于所述罩蓋基板的角位置可以控制在期望的旋轉(zhuǎn)量內(nèi)。

技術(shù)研發(fā)人員：沙亞通·薩克朗,斯坦凡·賴安·胡珀,斯考特·M·海耶斯,D·L·丹尼爾斯,楊瑾
受保護的技術(shù)使用者：恩智浦美國有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6